对刻划要有一系列的测试,对光栅的效率,刻线外形和杂散光要进行检查。每次测试后,可能需要一个小的机械调整。为了优化刻线外形以达到特定的光学特性,可能需要一周或者更长时间进行重复测试。经过彻底测试后,才能在一块大的基板上刻划原始光栅。原始光栅非常昂贵,所以在复制光栅开发出来之前,光栅只能有限使用。
联合光科提供联合光科提供多种尺寸及刻线数的平面平面刻线衍射光栅(Ruled Diffraction Gratings),如您有任何问题或需求,都可以联系我们,我们将竭诚为您服务。
- 光栅基片材料 浮法玻璃
- 表面光洁度 60-40
- 尺寸公差 ±0.5mm
- 厚度公差 ±0.5mm
- 效率 60%-80%@闪耀波长
- 有效孔径 90%
- 损伤阈值 350mJ/cm²@200ns脉冲激光40W/cm²连续激光
闪耀角






































































































































































































































































电光Q开关.jpg)



















































































