硅平面窗口片
硅平面窗口片(Silicon (Si) Windows)是一种平行平面板,通常用作电子传感器或外在环境的检测器的保护窗口。在选择窗口时,应注意窗口片的材质、透过率及透过波段、面型、光洁度、平行差等参数指标。
可红外紫外窗口片是一种设计用于外红或紫外光谱的窗口片。窗口片设计用于防止电子传感器、检测器或其他敏感光学元件被饱和或出现光损伤现象。硅是一种红外波段常用的光学玻璃材料,透过波段为1.2-8.0μm,硅具有高热传导率。可以作为多种光学元件的基底,例如透镜、窗口片等,常用于近红外与中红外的应用,也适用于红外成像、太赫兹成像、医疗、军事等应用中。
联合光科提供不镀膜、镀增透膜的硅基底的平面窗口,提供双面增透的IR1(3-5μm)增透膜窗口片。
硅平面窗口片
材料 硅单晶
透过波前畸变 1λ@633nm
平行差 <1弧分
表面光洁度 40/20-60/40
直径误差 +0.0/-0.1mm
厚度公差 ±0.1mm
倒边 0.2mmX45°
镀膜
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规格参数
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镀膜
透过波前畸变
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Φ10.0mm
无镀膜
1λ@633nm
1.0mm
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Φ12.5mm
无镀膜
1λ@633nm
2.0mm
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¥355.00
Φ12.7mm
无镀膜
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥355.00
Φ25.0mm
无镀膜
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥450.00
Φ25.4mm
无镀膜
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥450.00
Φ40.0mm
无镀膜
1λ@633nm
2.0mm
请咨询
¥675.00
Φ50.0mm
无镀膜
1λ@633nm
3.0mm
现货
¥850.00
Φ10.0mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
1.0mm
现货
¥415.00
Φ12.5mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥450.00
Φ12.7mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥450.00
Φ25.0mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥700.00
Φ25.4mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥700.00
Φ40.0mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
2.0mm
现货
¥950.00
Φ50.0mm
双面增透Ravg<1%@3~5μm
1λ@633nm
3.0mm
现货
¥1,150.00

我公司有两种类型的手册: 光学器件&光电仪器手册视觉成像手册

光学器件&光电仪器手册:手册中的产品包括有:光学元件、激光元件、光机元件、运动控制、成像元件、光源&激光光源、光电器件、测量仪器、光学材料等。除了这些标准产品外,还提供大尺寸超精密平面光学元件定制、球面光学定制、非球面光学定制、成像镜头设计定制、光学设计定制以及精密角度元件定制。
 

视觉成像手册:手册中的产品包括有:定焦镜头、远心镜头、变焦变倍镜头、线扫镜头、短波近红外镜头(SWIR)、360°外侧环视镜头、VIS-NIR镜头、中继镜、增距镜,远红外镜头、相机等。除了标准镜头产品外,还提供镜头的设计与开发。
 

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