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平面刻划光栅 25×25mm 300Lines/mm 闪耀波长500nm 紫外熔融石英
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产品型号 377042
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- 刻线数 300Lines/mm
- 闪耀波长 500nm
- 闪耀角 4.3°
- 尺寸 25×25mm
- 厚度 6.0mm
- 基片材料 紫外熔融石英
- 有效孔径 0.9
- 尺寸公差 ±0.1mm
- 厚度公差 ±0.1mm
- 色散 3.32nm/mrad
- 表面光洁度 60-40
- 衍射效率 60%~80%@闪耀波长
- 损伤阈值 350mJ/cm²@200ns（脉冲）/40W/cm²（连续）
平面刻线衍射光栅是一种通过机械刻划方式 ，在精密加工的平面光滑基底（通常是玻璃或金属）上，利用金刚石刀具刻划出数十甚至数百纳米深的平行沟槽而制成的色散元件。即刀具对铝膜产生挤压和抛光作用使其产生弹塑性形变从而形成周期性浮雕结构 (通常为三角形)。光栅刻刀在刻划方向上往复运动，工作台垂直于刻划方向作单方向运动，通过两个方向的运动合成，完成光栅刻划。它是光谱仪、单色仪、光脉冲压缩器等核心光学系统的关键部件，能够将不同波长的光在空间上分开。刻划光栅的核心制造工艺与优势与传统全息光栅不同，刻划光栅的优势在于其可设计的闪耀特性：
一是闪耀角控制，通过控制金刚石刻刀的几何形状，可以将光栅沟槽刻成具有特定角度的锯齿形（闪耀形）。这使得光能量能够集中到某一个特定的衍射级次和波段，实现高衍射效率。针对不同客户需求（如紫外、可见光、红外），我们可以调整刻划参数，优化特定波段的效率，最高绝对衍射效率可达 90%以上。
二是高刻线密度与精度，我们先进的刻划机能够在恒温、防振的洁净环境中，刻划出从每毫米几十线到每毫米 3600 线的高精度光栅，且鬼线和杂散光水平控制在极低范围。
平面刻线衍射光栅的典型应用有：激光调谐、荧光光谱、ICP-OES 发射光谱等
产品特点
1.闪耀特性：衍射效率高达 90%以上
2.刻线密度范围广：80 线/mm - 3600 线/mm
3.槽形可定制：可根据激光波长优化闪耀角
一是闪耀角控制，通过控制金刚石刻刀的几何形状，可以将光栅沟槽刻成具有特定角度的锯齿形（闪耀形）。这使得光能量能够集中到某一个特定的衍射级次和波段，实现高衍射效率。针对不同客户需求（如紫外、可见光、红外），我们可以调整刻划参数，优化特定波段的效率，最高绝对衍射效率可达 90%以上。
二是高刻线密度与精度，我们先进的刻划机能够在恒温、防振的洁净环境中，刻划出从每毫米几十线到每毫米 3600 线的高精度光栅，且鬼线和杂散光水平控制在极低范围。
平面刻线衍射光栅的典型应用有：激光调谐、荧光光谱、ICP-OES 发射光谱等
产品特点
1.闪耀特性：衍射效率高达 90%以上
2.刻线密度范围广：80 线/mm - 3600 线/mm
3.槽形可定制：可根据激光波长优化闪耀角
